Аннотация
Исследовано влияние перезарядки поверхностных состояний границы раздела $Si—SiO_2$ на процесс лавинной инжекции электронов. Показано, что рост плотности поверхностных состояний зависит от режима проведения лавинной инжекции.
English citation: Generation of electronic states on the Si-Si02 interface bу avalanche injection
S.N. Kozlov and А.Yu. Potapov
© 2016 Издательство Московского университета
Авторы
С.Н. Козлов, А.Ю. Потапов
Московский государственный университет имени М.В. Ломоносова, физический факультет, кафедра общей физики для химического факультета. Россия, 119991, Москва, Ленинские горы, д. 1, стр. 2
Московский государственный университет имени М.В. Ломоносова, физический факультет, кафедра общей физики для химического факультета. Россия, 119991, Москва, Ленинские горы, д. 1, стр. 2