В двойной гетероструктуре {$p$-}Al$_{0.5}$Ga$_{0.5}$As/GaAs/Al$_{0.5}$Ga$_{0.5}$As с нормальной и инвертированной гетерограницами при низких температурах 1.7-160 K обнаружены эффекты отрицательной и положительной задержанной фотопроводимости. Показано, что отрицательная фотопроводимость возникает под освещением структуры красным светом, существует ниже $\sim$70 K, связана с падением концентрации 2D-дырок и объясняется существованием вблизи гетерограницы слоя глубоких донороподобных ловушек с низкой величиной термоактивационного барьера $E_B=6\pm0.9$ мэВ. Положительная задержанная фотопроводимость возникает после выключения освещения и релаксации отрицательной фотопроводимости, она определяет изменение концентрации 2D-дырок в области температур 70-140 К и связывается с электронными ловушками на инвертированной гетерогранице с активационным барьером $22\pm2$ мэВ. Влияние одноосного сжатия на величину термоактивационных барьеров не обнаружено.
Московский государственный университет имени М. В. Ломоносова, физический факультет, кафедра физики низких температур. Россия, 119991, Москва, Ленинские горы, д. 1, стр. 2. Институт физики, Университет им. Гумбольдта, D-1055 Берлин, Германия.