Предложен метод усиления сигнала для режима сканирующего зондового микроскопа, при котором одновременно с топографией измеряется распределение поверхностного потенциала образца с помощью локального зонда на основе полевого транзистора с каналом-нанопроводом. Применение метода особенно актуально при исследовании электрического потенциала поверхности в случае, когда она закрыта слоем диэлектрика, сильно ослабляющим электрическое поле детектируемых электрических зарядов. Метод заключается в нанесении поверх диэлектрического слоя тонкой пленки хрома (Rкв > 10 кОм), толщина 7 нм, состоящей из небольших проводящих гранул, разделенных туннельными барьерами. На примере изготовленных тестовых структур экспериментально показано, что можно восстановить сигнал, ослабленный диэлектрическим слоем, на 70 - 80%. Проведенные оценки показали, что порог чувствительности транзисторов, интегрированных на зонд сканирующего зондового микроскопа, лежит в пределах 2-5 мВ в единичной полосе частот на частоте 100 Гц
07.07.Df Sensors
62.23.Hj Nanowires
68.37.-d Microscopy of surfaces, interfaces, and thin films
$^1$Центр Квантовых Технологий, Физический факультет, Московский Государственный Университет им. М.В. Ломоносова\
$^2$Институт нанотехнологий микроэлектроники РАН\
$^3$Научно-исследовтаельский институт ядерной физики имени Д.В. Скобельцына, Московский Государственный Университет им. М.В.Ломоносова\
$^4$Институт радиотехники и электроники им. В.А. Котельникова Российской академии наук