В настоящей работе исследуется возможность контролируемого изменения рельефа поверхности аддитивных материалов Ti6Al4V и AlSi10Mg с помощью облучения кластерными ионами аргона с энергией 10 кэВ. Исследовано влияние угла падения кластерных ионов на формирующийся рельеф поверхности. При нормальном облучении поверхностей Ti6Al4V и AlSi10Mg кластерными ионами наблюдается уменьшение шероховатости поверхности с 6,2 нм до 0,89 нм и с 16,8 нм до 4,27 нм соответственно (согласно данным атомно-силовой микроскопии для изображения 3×3 мкм). Определен диапазон пространственных длин волн, в котором происходит значительное сглаживание рельефа. Наклонное кластерное облучение приводит к равномерному формированию упорядоченного волнообразного рельефа, независимо от ориентации кристаллитов и фазы материала.
81.05.Bx Metals, semimetals, and alloys
81.16.Rf Micro- and nanoscale pattern formation
81.40.-z Treatment of materials and its effects on microstructure, nanostructure, and properties
$^1$1. Московский государственный университет имени М.В Ломоносова, физический факультет, кафедра физической электроники