Расчёт массовых распределений фрагментов Cu, распыленных кластерными ионами Ar, на основе молекулярно-динамического моделирования

Проведено молекулярно-динамическое моделирование процессов взаимодействия кластеров Arn с поверхностью Cu при разных соотношениях E/n. Рассчитаны распределения распыленных фрагментов по массам. Показано, что данные распределения описываются степенным законом, как функцией от размера фрагмента. Изучены зависимости показателя степени от энергии и размер первичного кластера, показано, что он коррелирует с полным коэффициентом распыления аналогично случаю распыления атомарными ионами.