Диффузное рассеяние электронов в сплаве Ti$_{50}$Ni$_{46}$Nb$_{4}$ на стадии предвыделения Х-фазы.

Методом дифракционной электронной микроскопии исследована тонкая кристаллическая структура B2-твердого раствора в сплаве Ti$_{50}$Ni$_{46}$Nb$_{4}$. В процессе изотермического отпуска при 550°С происходит выделение ГЦК Х-фазы с постоянной a$_{x}$= 2√7a$_{B2}$=15,8A. Непосредственно после закалки сплава с 1100°С в ОЦК B2-решетки существуют области с кристаллической структурой, близкой к структуре Х-фазы, которые обусловливают характерную конфигурацию интенсивного диффузного рассеяния электронов.