Поглощение СВЧ-волны при резонансном нагреве плазмы с высокой концентрацией электронов внутри волновода

Показана роль резонансного поглощения и перераспределения СВЧ-поля вдоль силовых линий при взаимодействии его с ограниченной плазмой с концентрацией электронов выше критической при низком давлении газа. Рассчитаны и сопоставлены с экспериментом коэффициенты поглощения и отражения СВЧ-волны плазменным столбом в волноводе. Показана возможность эффективного управления кинетическими процессами в плазме с помощью импульсного СВЧ-нагрева.