Рассмотрен подход к созданию голограмм и масок для оптической литографии, основанный на дискретизации изображения и разложении отсчетов на три фазовые составляющие, заданные на специальном растре. Исследованы условия эквивалентности непрерывного и растрового задания функции пропускания. Проведено численное моделирование формирования изображений с помощью синтезированных фазово-растровых масок. Показано, что для них выполняется свойство локальности - отсчет функции пропускания в данной точке маски определяется положением ближайшего отверстия в растре.
Московский государственный университет имени М.В. Ломоносова, физический факультет, кафедра физики колебаний. Россия, 119991, Москва, Ленинские горы, д. 1, стр. 2
Бюллетень «Новости науки» физфака МГУ
Это новое информационное издание, целью которого является донести до сотрудников, студентов и аспирантов, коллег и партнеров факультета основные достижения ученых и информацию о научных событиях в жизни университетских физиков.