Структура тонких пленок углерода, осажденных под EUV-излучением 13.5 нм

Исследованы структура и состав тонких нанометровых пленок углерода, осажденных на подложку под мощным EUV-излучением 13.5 нм в условиях высокого вакуума. Структура пленки исследовалась методом рамановской спектроскопии в сравнении с известными структурными формами углерода - алмазом, одно- и многостенными нанотрубками, нано- и микрокристаллическим графитом, а также аморфным углеродом. Кроме этого для изучения возможных ИК-активных химических связей, прежде всего водородных была использована ИК фурье-спектроскопия поглощения. Показано, что пленки, осаждаемые на поверхности под воздействием EUV-излучения, являются аморфными углеродными пленками, основу которых составляет $sp^2$-углерод. Кратко обсуждается механизм образования этих пленок. Знание структуры и состава подобных углеродных пленок представляется крайне важным в EUV-литографии.