Аннотация
Выполнено исследование возможности плазменной очистки от загрязнений углеродом многослойных зеркал, используемых в EUV 13.5 нм литографии. Проведенные эксперименты в безэлектродной плазме поверхностно-волнового разряда низкого давления в гелии и водороде показали высокую скорость, эффективность и селективность такой очистки без повреждения верхнего защитного слоя зеркала даже на атомарном уровне. Определены оптимальные рабочие параметры плазменной очистки, и обсуждается ее возможный механизм.
Поступила: 31 октября 2010
Статья подписана в печать: 14 декабря 2011
PACS:
81.65.Cf Surface cleaning, etching, patterning
61.48.+c Fullerenes and fullerene-related materials
39.30.+w Spectroscopic techniques
82.20.-w Chemical kinetics and dynamics
61.48.+c Fullerenes and fullerene-related materials
39.30.+w Spectroscopic techniques
82.20.-w Chemical kinetics and dynamics
English citation: Plasma cleaning of multilayer mirrors in EUV lithography from amorphous carbon contaminations
E.M. Malykhin, D.V. Lopaev, A.T. Rakhimov, T.V. Rakhimova, O.V. Braginskii, A.S. Kovalev, A.N. Vasil’eva, S.M. Zyryanov
© 2016 Издательство Московского университета
Авторы
Е.М. Малыхин, Д.В. Лопаев, А.Т. Рахимов, Т.В. Рахимова, О.В. Брагинский, А.С. Ковалев, А.Н. Васильева, С.М. Зырянов
Научно-исследовательский институт ядерной физики имени Д.В. Скобельцына Московского государственного университета имени М.В. Ломоносова. Россия, 119991, Москва, Ленинские горы, д. 1, стр. 2
Научно-исследовательский институт ядерной физики имени Д.В. Скобельцына Московского государственного университета имени М.В. Ломоносова. Россия, 119991, Москва, Ленинские горы, д. 1, стр. 2