В работе получены туннельные вольт-амперные характеристики для растущих квантовых точек из коллоидного золота в системе совмещенного атомно-силового и сканирующего туннельного микроскопа. Предполагается, что основной вклад в туннельный ток вносит ионная проводимость. Проведено качественное сравнение туннельных вольт-амперных характеристик с рассчитанной теоретической кривой полевой зависимости вероятности 2D-диссипативного туннелирования с учетом влияния двух локальных фононных мод широкозонной матрицы. Установлено качественное соответствие экспериментальной и теоретической кривых, что свидетельствует о возможном вкладе механизма диссипативного туннелирования в туннельный ток через растущую квантовую точку под иглой кантилевера, который может быть усилен в кластерах размером от 1 до 5 нм в более тонких пленках.
03.65.Sq Semiclassical theories and applications
31.15.Gy Semiclassical methods
31.15.Kb Path-integral methods
$^1$Московский государственный университет имени М.В. Ломоносова, физический факультет, кафедра теоретической физики. Россия, 119991, Москва, Ленинские горы, д. 1, стр. 2.
$^{2,4}$Пензенский государственный университет, факультет приборостроения, информационных технологий и электроники,
$^2$кафедра «Физика»;
$^4$кафедра «Приборостроение». Россия, 440026, Пенза, ул. Красная, д. 40, ПГУ.
$^3$Научно-исследовательский физико-технический институт при НГГУ имени Н.И. Лобачевского. Россия, 603950, Нижний Новгород, просп. Гагарина, д. 23, корп. 3.