Параметры плазмы в ВЧ индуктивном двухкамерном источнике малой мощности при наличие внешнего магнитного поля

В настоящей работе представлены результаты исследования параметров плазмы в ВЧ индуктивном двухкамерном источнике плазмы, помещенном во внешнее магнитное поле. Рассмотрен диапазон давлений аргона 5∙10$^{–5}$–6∙10$^{–2}$ Тор, индукции магнитного поля (0-60 Гс), мощностей ВЧ генератора 25 – 300 Ватт. В ходе экспериментов было обнаружено резонансное поглощения ВЧ мощности в зависимости от величины магнитного поля, а также соответствие локальных максимумов поглощения ВЧ мощности локализованным в пространстве максимумам концентрации электронов. Сопоставление результатов экспериментов с результатами численных расчетов дало основания полагать, что резонансный характер разряда связан с возбуждением пространственных мод связанных геликонных и косых ленгмюровских волн.