Аннотация
Показана зависимость структурных и магнитных параметров пленок Ni от энергии ионов $Кr^+$, бомбардирующих пленку в процессе ее напыления. Полученные зависимости объясняются наличием в разряде дискретных областей ионизации, упругим и неупругим характером взаимодействия ионов $Кr^+$ с поверхностью пленки, соотношением потоков атомов Ni и ионов $Кr^+$ в двух различных режимах разряда, а также различным характером взаимодействия ионов с ГЦК и ГПУ фазами никеля.
English citation: Structural and magnetic properties of nickel films deposited from oscillating-electron discharge under low-energy krypton ion irradiation
G.V. Smirnitskaya, S.V. Sveshnikov, L.V. Nikitin, D.M. Gazdiev, E.V. Likhushina, L.S. Mironova, T.I. Udilina
© 2016 Издательство Московского университета
Авторы
Г.В. Смирницкая, С.В. Свешников, Л.В. Никитин, Д.М. Газдиев, Е.В. Лихушина, Л.С. Миронова, Т.И. Удилина
Московский государственный университет имени М.В. Ломоносова, физический факультет, кафедра общей физики для естественных факультетов. Россия, 119991, Москва, Ленинские горы, д. 1, стр. 2
Московский государственный университет имени М.В. Ломоносова, физический факультет, кафедра общей физики для естественных факультетов. Россия, 119991, Москва, Ленинские горы, д. 1, стр. 2