Предложено использование поверхностей с предварительно сформированным упорядоченным нанорельефом для исследования механизмов эволюции топографии поверхности под действием ионного облучения. Предлагаемый подход реализован для случая бомбардировки поверхности кремния наклонным пучком ускоренных кластерных ионов. Образцы с упорядоченным рельефом формировались с помощью электронной литографии, поверхность исследовалась методами РЭМ и АСМ. Показано, что результирующий рельеф образуется в результате конкуренции процессов распыления и миграции атомов, эффективность которых определяется локальными углами падения ионов и кривизной поверхности. Продемонстрирована возможность получения асимметричного профиля поверхности с заданными параметрами за счет выбора угла падения ионного пучка, дозы облучения и исходного рельефа поверхности.
36.40.-c Atomic and molecular clusters
$^1$Московский государственный университет имени М.В.Ломоносова, физический факультет, кафедра физической электроники