Аннотация
Сообщается о наблюдении ориентационных зависимостей интенсивности второй гармоники и суммарной частоты, генерируемых при отражении от поверхности кремния среза (111), имплантированной ионами фосфора. Эксперимент показал, что с ростом дозы имплантации относительная величина анизотропного вклада в сигнал падает, что соответствует постепенному росту степени разупорядочения кристаллической структуры.
English citation: Generation of a second harmonic and a total frequency with reflection from a silicon surface implanted with phosphorus ions: diagnosis of crystalline structure randomization
M.F. Galyautdinov, S.V. Govorkov, N.I. Koroteev, I.B. Khaibullin, I.L. Shumai
© 2016 Издательство Московского университета
Авторы
М.Ф. Галяутдинов, С.В. Говорков, Н.И. Коротеев, И.Б. Хайбуллин, И.Л. Шумай